HORIBA掘場(chǎng)EV 2.0 等離子體排放監(jiān)測(cè)器北崎國(guó)際

HORIBA掘場(chǎng)EV 2.0 等離子體排放監(jiān)測(cè)器北崎國(guó)際

在半導(dǎo)體制造工藝中，等離子體技術(shù)用于各種制造工藝，包括薄膜沉積和蝕刻。
它是一種等離子體發(fā)光監(jiān)測(cè)器，可用于從各種等離子室的研發(fā)到生產(chǎn)線(xiàn)的廣泛應(yīng)用，例如過(guò)程終點(diǎn)檢測(cè)、狀態(tài)管理和等離子體診斷。
從高分辨率、寬范圍和小尺寸三種新開(kāi)發(fā)的型號(hào)中，可以根據(jù)用途選擇*規(guī)格。 此外，分析軟件可以滿(mǎn)足廣泛的需求，例如從血漿中的微小信號(hào)變化中檢測(cè)的終點(diǎn)，以及血漿過(guò)程的異常監(jiān)測(cè)。

• 3 種型號(hào)可供選擇，以滿(mǎn)足您的應(yīng)用需求
• 可直接安裝在工藝室的窗口上
• 高度*化的軟件支持從研發(fā)到大規(guī)模生產(chǎn)的廣泛應(yīng)用。
• 一臺(tái) PC 可以同時(shí)測(cè)量多達(dá) 6 個(gè)腔室（6 個(gè)等離子體發(fā)射監(jiān)測(cè)

* 傳感器單元和 PC 配有 AC100V 電源。
* 有關(guān)光纖、腔室適配器、多通道 PC 和其他規(guī)格，請(qǐng)聯(lián)系我們。